應(yīng)用領(lǐng)域：離子鍍膜、單晶硅爐、真空釬焊爐、真空熔煉爐、化學(xué)氣相沉積、液晶再生、六氟化硫開關(guān)、高溫高壓設(shè)備、環(huán)境試驗設(shè)備
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